盛美步入边缘刻蚀领域，新产品支持3D NAND、DRAM和先进逻辑制造工艺
8月19日消息，盛美半导体设备近日公布的边缘湿法刻蚀设备，进一步拓宽了盛美湿法设备的覆盖面。