Intels Chipfertigung: Weg von Nanometer, hin zu Angströ

Intels Chipfertigung: Weg von Nanometer, hin zu Angström mit HighNA-EUV


Carsten Spille
Bei Intels Chipfertigung lief es in den vergangenen Jahren alles andere als rund. Das größte Sorgenkind war die Fertigung mit 10-Nanometer-Technik, die sich verspätete und erst nach einer Lockerung der Designvorgaben die gewünschten Taktraten jenseits der 4 GHz zuverlässig erreichte.
Diese 10-nm-Technik mit "SuperFin"-Zusatz, welcher die Gates der Transistoren vergrößerte, ist die letzte im klassischen Namensschema. Ab der ehemals "enhanced SuperFin" genannten Generation nutzt Intel eine neue Nomenklatur, sodass der Prozess dann schlicht Intel 7 heißen wird.
Damit will Intel der Tatsache Rechnung tragen, dass eine einzelne Nanometer-Angabe schon seit vielen Jahren kaum noch adäquat die Strukturgrößen beschreibt und eher ein Marketingbegriff geworden ist. Das hat Intel jahrelang, als man in Sachen Herstellungstechnik weltweit führend war, freilich nicht groß gestört. Auch unabhängige Chip-Experten bestätigten, dass Intels 10-nm-Fertigung in Sachen Transistordichte durchaus mit der 7-nm-Technik des Chipauftragsfertigers TSMC mithalten könne.

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